TOPIC 01
Semiconductor半導體製程
半導體晶圓製程需要在超高溫、強腐蝕性環境中精準操控熔融金屬與化學材料,同時對製程用水與清洗品質有極高要求。欣晨的碳化矽(SiC)保護管以其卓越的耐熱衝擊性與化學惰性,成為擴散爐管、長晶設備等核心製程設備的關鍵耗材;高濃度奈米氣泡流體模組則用於晶圓清洗與製程用水品質提升,達到節能且免化學添加的潔淨效果。
- SiC保護管:耐溫達1600°C,抗氧化與抗腐蝕
- 高濃度奈米氣泡流體模組:氣泡尺寸<100nm,用於晶圓清洗與製程用水品質提升
- 一體式料管:確保熔融矽材輸送的純淨無汙染
- 客製化尺寸,適配各式長晶爐與PECVD設備